【已完结】 Pulsed-chemical Vapor Deposition Of Ruthenium And Ruthenium Dioxide Thin Films Using RuO4 Precursor For The Dram Capacitor Electrode 搜知猫

标题	Pulsed-chemical Vapor Deposition Of Ruthenium And Ruthenium Dioxide Thin Films Using RuO4 Precursor For The Dram Capacitor Electrode
网址	https://doi.org/10.1149/1.3122127
DOI	10.1149/1.3122127
其他	期刊：ECS Transactions 作者：J.H. Han;S.W. Lee;G.J. Choi;S.Y. Lee;C.S. Hwang;C. Dussarrat;J. Gatineau 出版日期：2009
求助人	牛牛丶哞︶ㄣ羊羊丶咩︶ㄣ在 2025-04-28 07:56:16 发布，悬赏 20 积分
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